| 技术指标： | 真空镀膜硬件设备主要包括小多弧离子镀膜机、大面积弧离子镀膜机、柱状靶离子镀膜机、磁过滤离子镀膜机、磁控溅射镀膜机（包括平面和柱状）、孪生磁控溅射镀膜机、非平衡磁控溅射镀膜机、射频溅射镀膜机及其复合型离子镀膜设备等系列型号，主要根据用户所处理的零部件要求达到的性能指标来确定配置和生产。 |
| 技术介绍： | 真空镀膜技术主要是利用等离子体物理、化学手段将固体表面涂覆一层特殊性能的膜层，从而使固体表面具有耐磨损、耐高温、耐腐蚀、抗氧化、防辐射、导电、导磁、绝缘及装饰等许多优于固体材料本身的优越性能，达到提高产品质量、延长产品寿命、节约能源和获得显著技术经济效益的作用。被誉为最具发展前途的重要技术之一，并已在高技术产业化的发展中展现出诱人的市场前景。已在国民经济各个领域得到应用，如航空、航天、电子、信息、机械、石油、化工、环保、生物、医学和军事等领域。 |
| 技术等级： | -1 |
| 技术成熟度： | 八级 |
| 技术名称： | 真空镀膜技术 |
| 技术领域： | 先进制造工艺及装备 |
| 技术特点： | 真空镀膜技术主要用于各种材料需提高其使用性能和寿命的的零部件的表面处理，是一些传统表面处理技术如电镀、喷涂等的换代新技术。它具有环保、节约资源和经济性高等特点，被誉为最具发展前途的重要技术之一，并已在许多行业中获得了广泛的应用，而且随着社会的发展，不断涌现新的应用领域，业已展现出了诱人的市场前景。 |
| 已应用情况： | 航空、航天、机械、电子、生物、能源等各种领域 |
| 技术应用范围及说明： | 航空、航天、机械、电子、生物、能源等各种领域 |
